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  • Influence of the hydrogen contained in amorphous silicon thin films on a pulsed radiofrequency argon glow discharge coupled to time of flight mass spectrometry. Comparison with the addition of hydrogen as discharge gas [2012]

    Categoría:
    Artículos
    Autores:
    Deborah Viviane M. Alberts , Alfredo Sanz Medel , Pascal Sánchez , María Rosario Pereiro García , Beatriz Fernández García , Armando Menéndez Estrada
    Fecha:
    01 de Enero de 2012
    Es parte de:
    Journal of Analytical Atomic Spectrometry